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德國新帕泰克將參展9月27-29日上海IPB2010國際粉體展

發布時間:2010/9/29   來源:阿儀網   閱讀次數:3887   轉載:

IPB 2010 第八屆國際粉體工業/散裝技術展覽會暨會議

    時間:2010年9月27-29日
    地點:上海國際展覽中心
    地址:上海市興義路77號

    公司展位號1118,屆時將攜最新R系列干法激光粒度儀HELOS/RODOS(測試范圍0.1-3500μm)、動態粒度粒形分析儀QICPIC(測試范圍1-20000μm)、納米激光粒度儀NANOPHOX(測試范圍1-10000nm)、超聲衰減粒度儀OPUS(0.01-3000μm),并有中國工程師在現場為您做專業的介紹與解答。 

    德國新帕泰克專利的干法粒度儀HELOS/RODOS,以其“干樣干測”、“瞬時分散,瞬時測量”的優勢,廣泛以用于粉體行業的粒度分析與測量,具有分散效果好、測試速度快、準確性與精度高等優點。

    動態粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎上,提供粒形信息,為以顆粒形態為表征的行業與分析研究院提供了包括球形度、長寬比、纖維長度等更多參數的信息。

   納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理,消除多重散射的影響,測試濃度高,準確性好,同時提供穩定性分析,是分析納米粉體的最佳選擇。

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